DUV 的推手「林本堅博士」

最近因為各類晶片大缺貨，晶圓代工廠又被各大媒體熱烈討論，台積電的產能甚至都成為國與國之間的外交對話，尤其是在車用晶片代工這部份。

除了因需求激增而導致產能不足的問題外，中美貿易戰的戰場也從關稅延伸到高科技設備禁運的制裁手段。其中一再被拿出來討論的便是 ASML 的 EUV 曝光機。

EUV 無疑是當下最先進的曝光機，也是美國嚴格限制的半導體重要製程設備，但 DUV 曝光機目前還是可以銷售到中國去的。

其實 DUV(Deep Ultra-Violet) 深紫外線曝光機是屬於浸潤式設計，有別於當時主流的「乾式」微影技術。

這是一個極大的挑戰，因為跟主流的想法完全不同，這就是創新思維，也因為 DUV 的成功，讓 ASML 彎道超車日本的 Nikon 及 Canon ，到今天成為半導體製程往前推進的關鍵角色。

還記得 2002 年時，台灣新聞也曾經大篇幅報導這個讓人振奮的消息，林本堅博士就是其中的核心推手，他雖然不是在台灣土生土長，但由於高中及大學均是在台灣就讀，因此媒體就自然而然的將他視為「自己人」。

究其後續的發展，攻讀博士及 IBM 22 年的工作經驗都是在美國完成，說是美國培育出來的人才完全沒有疑議。

但難得的是，在台積電的這個平台上，是在台灣研發及引導 ASML 開發出 DUV 的設備，這就表示台灣公司是有能力引領尖端科技發展的。

如今，沒有人會有疑問，畢竟台積電已經是世界級的大公司，不斷的突破最尖端的半導體製程技術。

但在 15 年前，這就是大新聞了，所以到現在都還有印象，可見當時這個突破是多麼可貴的事情。

據悉，林本堅博士早已自台積電退休，並轉往清華大學作育英才，他也快 80 歲了，台灣半導體產業能有今天的成就，真的多虧了他們這群 70 至 90 歲的人打下的基礎，時代不會忘記你們，這個創新創業的精神將永遠流傳下去。